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项目名称 气体小环境装置以及化学机械研磨机台
项目品类 信息类型
参考价格 面议 万元 项目状态
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专利登记表(供给方)

专利名称 气体小环境装置以及化学机械研磨机台     
国内专利
申请号/专利号
(例如:CN,JP)
CN201220520665 专利权人 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
申请日 授权日
法律状态 已授权
行业分类 一级    二级    三级 
意向价格 面议 万元 权属人所属地域 省    市    区 
IPC分类 一级    二级    三级 
专利类别 实用新型
是否有PCT 选项:
合作方式


专利摘要

本实用新型揭露了一种气体小环境装置以及化学机械研磨机台,所述装置包括气源、与所述气源连接的管路以及用于将所述气源提供的气体喷吹到一晶圆表面的喷头,所述喷头与所述管路连接。所述化学机械研磨机台包括所述气体小环境装置。使用本实用新型所提供的气体小环境供应装置,在晶圆附近形成气体的小环境,隔离外环境中引起电化学腐蚀的物质,降低了电化学腐蚀所产生缺陷的发生几率,同时减少了扬起细微颗粒对产品造成影响的概率,提高产品良率,节省了能耗和生产成本。

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信息有效期      至   2018-03-31

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